石墨方舟異常情況處理和日常維護(hù)等

石墨方舟異常情況處理和日常維護(hù)等:

1，批次與批次之間不滿石墨方舟如何？不滿石墨方舟會(huì)有什么結(jié)果？上一批不滿一石墨方舟用下一批次填滿，并分別記錄區(qū)分開來。不滿石墨方舟進(jìn)行工藝，沒有硅片的石墨方舟片上會(huì)沉積SIN膜，石墨石墨方舟物理性質(zhì)下降，會(huì)產(chǎn)生紅片，色差片等。

2，一區(qū)二區(qū)流程卡如何對(duì)接，數(shù)量如何確認(rèn)？刻蝕通過傳送箱流入的合格品，當(dāng)場清點(diǎn)數(shù)量即可。

3，石墨石墨方舟工藝要求的清洗周期、刻蝕周期？預(yù)處理的方式有幾種不同？預(yù)處理不合格返工片多如何處理？石墨石墨方舟運(yùn)行120-150次需刻蝕，刻蝕滿6次需清洗預(yù)處理方式預(yù)處理方式：NEW BOAT PRZ 新石墨方舟插上硅片預(yù)處理AFTETCH PRZ 石墨方舟刻蝕后沒插硅片預(yù)處理AFTETCH PRZ 石墨方舟刻蝕后插硅片預(yù)處理預(yù)處理后返工片多，加工藝時(shí)間，若還不行，需進(jìn)行拆洗。

4，刻蝕、清洗、預(yù)處理的整個(gè)流程？當(dāng)石墨石墨方舟運(yùn)行120-150次：滿6次刻蝕-拆洗-烘干-預(yù)處理不滿6次刻蝕-刻蝕-預(yù)處理

5，色差片產(chǎn)生的幾種原因？清洗、刻蝕工序減薄量不穩(wěn)定石墨石墨方舟物理性質(zhì)下降（SIN沉積過多）鍍膜時(shí)間不同微波峰值不穩(wěn)定（設(shè)備原因）

6，色斑批片產(chǎn)生的原因？硅片表面清洗不干凈擴(kuò)散間偏磷酸滴漏清洗、刻蝕、風(fēng)刀沒吹干或堵塞

7，檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)？（色差、色斑片的判定標(biāo)準(zhǔn)）以QC為準(zhǔn)

8，每臺(tái)機(jī)的石墨石墨方舟配置標(biāo)準(zhǔn)？小車的配置是怎樣的？每臺(tái)機(jī)石墨石墨方舟標(biāo)準(zhǔn)配置7個(gè)，為正常輪轉(zhuǎn)生產(chǎn)，小車配置4個(gè)。

9，為什么會(huì)出現(xiàn)石墨方舟漿分離？石墨石墨方舟電極放反，SLS漿在爐管中較長時(shí)間未出，導(dǎo)致變形，檢查要到位，及時(shí)觀察。

10，鍍膜的整個(gè)過程。工藝開始-充氮-進(jìn)石墨方舟-漿降至低位-漿在低位退出-管內(nèi)抽真空并進(jìn)行管內(nèi)壓力測試-通過高頻電源用NH3預(yù)清理和檢查-清洗管路-測漏-恒溫-高頻電源用NH3預(yù)清理-鍍膜-結(jié)束鍍膜-抽真空及測試壓力-清洗管路-將管內(nèi)剩余NH3、SH4抽走、防止與空氣接觸爆炸-充氮-漿在低位進(jìn)入爐內(nèi)-SLS移至高位-退石墨方舟-結(jié)束工藝

11，備用石墨方舟的管理。一條線總共20個(gè)石墨方舟，14個(gè)生產(chǎn)，6個(gè)備用，備用石墨方舟不使用時(shí)應(yīng)保存在相應(yīng)的石墨石墨方舟柜內(nèi)。

12，PECVD每條線每個(gè)班要求的產(chǎn)量，在制品要求的上下限，工藝允許在制品的等待時(shí)間是多長。另外要求刻蝕保證的在制品數(shù)量是多少。產(chǎn)量13500，留絲網(wǎng)在制品4000PCS左右，刻蝕流入在制品1800PCS左右。

13，工藝重點(diǎn)參數(shù)膜厚： 100nm 折射率： 2.0鍍膜的好壞，一般情況下是根據(jù)膜的顏色來判斷的。正常膜面為淡藍(lán)色，當(dāng)膜偏厚時(shí)顏色會(huì)發(fā)白，偏薄時(shí)顏色會(huì)發(fā)紅因PECVD制程只能通過調(diào)節(jié)時(shí)間來控制膜厚，所以膜面質(zhì)量的改善很大一部分需要從前站來改善。